Produkter

Vi studerte en nitrogen-dopet nanokarbonfilmelektrode med en nitrogenkonsentrasjon på lavere enn 10,9 at% dannet av den ubalanserte magnetron (UBM) sputtering-metoden.Sp(3)-innholdet i den nitrogendopete UBM-forstøvende nanokarbonfilmen (N-UBM-film) øker litt med økende nitrogenkonsentrasjon.Den nitrogenholdige grafittlignende bindingen avtar og pyridinlignende binding øker med økende nitrogenkonsentrasjon.N-UBM-filmen har en veldig glatt overflate med en gjennomsnittlig ruhet på 0,1 til 0,3 nm, noe som er nesten uavhengig av nitrogenkonsentrasjon.N-UBM-filmelektroden viser et bredere potensialvindu (4,1 V) enn en ren-UBM-filmelektrode (3,9 V) på grunn av dens svake økning i sp(3)-innholdet.Den elektrokatalytiske aktiviteten økte med økende nitrogenkonsentrasjon, noe som tyder på at elektroaktiviteten er maksimal når nitrogenkonsentrasjonen er rundt 10,9 at%, noe som bekreftes av toppseparasjonen av Fe(CN)6(4-).Hydrogenperoksyd (H2O2) reduksjonspotensialene ved N-UBM-filmelektroden skiftet rundt 0,1 V, og toppstrømmen til H2O2 økte omtrent 4 ganger.